比7nm芯片更重要!中芯国际传来新消息国内院士早已给出答案

2021-09-21 01:50 · 国际资讯 · 16 阅读

最近几年时间,芯片成为了人们关注最多的话题,主要原因就是华为事件的发生,让我国企业深刻意识到“缺芯少魂”成为我国半导体芯片产业最大的痛处。“芯”自然是指芯片及芯片制造,而“魂”则是指操作系统。

在操作系统领域,鸿蒙操作系统的发布,打破了美国长期以来的垄断的局面;在芯片制造领域,我国还与国际第一梯队的台积电、三星有着一定的差距,要不然美国对华为的芯片限制,也不会让华为陷入有芯却无用武之地的地步。

正因芯片制造是我国半导体行业最薄弱也是最重要的环节,所以我国芯片制造企业中芯国际任重而道远。如果按芯片制造领域排名的话,中芯国际则是全球第五大芯片制造企业,代表着国内芯片制造的最高水平。

中芯国际能成为全球知名芯片制造企业,很大一部分原因是因为半导体传奇人物梁孟松的加入。据了解,自2017年11月,梁孟松加入并担任中芯国际联席CEO三年多时间以来,梁孟松几乎从未休假,在其带领的2000多位工程师的尽心竭力的努力下,完成了中芯国际从28nm到7nm工艺的五个时代的技术开发。

如今,中芯国际14nm芯片工艺良品率已经追平台积电,而7nm芯片的研发已经完成,甚至5nm中最关键、最艰巨的8项任务已经有序展开,只差EUV光刻机的到来。这也就意味着,如果我国能解决EUV光刻机问题,那么我们在高端制程芯片技术的开发就将会有跨越式的进步。

事实上,美国无时无刻都在阻挠国内芯片制造企业的崛起,比如中芯国际花费1.5亿美元从荷兰光刻机巨头ASML购买的EUV光刻机至今没有交付就是美国的干扰。前段时间,美国又突然对中国芯片制造限制“加码”,禁止包括台积电等在内的芯片制造商的28nm设备进入中国。

明显可以看出,美国这是在有意针对国内芯片企业,为了不让中国芯片及芯片制造业崛起,美国真是无所不有其极,芯片规则也是改了又改。然而就在近日,中芯国际传来新消息,我们才了解中芯今年的主要目标放在了28nm及以上的成熟工艺。

在刚刚过去的中芯国际股东大会上,中芯国际相关负责人接受采访时这样表示,先进技术一定会有长足的进步,今年的目标是实现中芯南方1.5万片产能的满产。研发主要是服务市场和客户,企业是具有社会责任和股东经济责任的整体,公司做事是为了中芯未来核心竞争力与回报更强更高。

此前有消息一度传出,中芯国际将于4月份风险试产7nm芯片,与此同时,中芯国际也向荷兰光刻机巨头ASML订购了价值12亿美元的光刻机合同。结合这两个消息,外界一致认为中芯国际理应侧重先进的14nm产品以及7nm的研发。

但自此之后,很长的一段时间里没有中芯国际7nm消息,反而在中芯国际股东大会上,中芯国际将目标锁定在成熟(28nm及以上)芯片工艺。很多人都想不明白,为什么中芯国际将重心放在利润更低的成熟工艺呢?

就目前形势而言,28nm芯片需求巨大,而且28nm更有“芯片制造的黄金线nm芯片应用十分广泛,不仅可以应用到汽车、基站等方面,还可以被广泛应用到智能电视、物联网设备。而且电动汽车又是大势所趋,中国大陆又是世界上最大的汽车制造基地,对于28nm及以上的芯片前景广泛。

翻开中芯国际2021年第一季度财报我们也可以发现一些端倪。财报显示,中芯国际2021年第一季度的营收为11亿美元(约合71亿人民币),相比去年有大幅上涨,超过市场预期。细分到不同工艺营收方面,55/56nm的营收占比高达32.8%,其次是0.15/0.18微米,占比30.3%,40/45纳米占比16.3%,而先进工艺14/28纳米营收占比仅6.9%。

明显可以看出,虽然55/56nm工艺是中芯国际的主要营收之一,但28nm的营收呈现出了上升趋势,已经成为中芯国际的主要营收来源。而且中芯国际已经正式宣布,将投资700亿建设28nm等芯片生产线,这一举动也表明了中芯国际的目标是28nm芯片。

值得一提的是,对于扎根14nm和7nm的研发,还是更成熟的55nm以及28nm,国内院士早已给出过答案。中科院计算所胡伟武院士曾公开表态,相比7nm等先进工艺制程的芯片技术,我国应该大力生产28nm及以上芯片更有实际意义。一味地追求先进工艺,不如将28nm以上成熟工艺彻底掌握在自己手中,意义更为重大。

一方面,28nm及以上产业链建设是利益最大化的方案之一。要知道,随着芯片工艺制程的不断微缩,芯片的研发成本及制造难度不断增大,要想有足够的资金用于长期的高额研发,就必须有足够的资金链作为支持,而成熟的28nm及以上就是主要营收来源。

另外,全球缺芯潮将延续到2023年,在全球市场中最缺的不是高端芯片,而是28nm及以上的成熟芯片。因此,中芯国际侧重28nm成熟芯片的产能将受益无穷,为其更坚定的7nm工艺打下基础。

另一方面,像7nm、5nm的高端芯片,壁垒多、城墙太厚,想要彻底攻下短时间很难实现。比如,7nm以下工艺需要EUV光刻机支持,一台EUV光刻机中的零部件数量多达10多万,由全球5000多家供应商供应。ASML首席执行官温彼得也曾表示,至少15年,中国才可以制造出所有产品,也就是说短时间内中国还无法解决EUV光刻机问题。

用我国院士吴汉明的话就是,EUV光刻机是全球技术集成做起来的顶级设备,让一个国家或者一个地区自研EUV光刻机并不现实。所以说,稳扎稳打的彻底掌握28nm及以上工艺技术是目前刚需。

如今来看,国内院士确实说对了。目前,我国需要28nm及以上成熟技术,就以此为基础来实现突破,对于国产芯片来说,这可能也是一次蜕变。

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